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第277章 EUV光刻机与DUV光刻机!(1/1)

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  当然,此时的绝大部分记者们并不知道如果想要生产90纳米和65纳米芯片。

  其实不一定需要采用第5代浸没式光刻机技术,直接研发采用第四代的ArF干式光刻机技术也行。

  因为第四代的ArF干式光刻机的光源波长是193nm,这193nm光源波长理论上最高是能生产65纳米芯片的。

  但做事不能考


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